用户登录
用户登录
仪器设备
薄膜
首页 仪器设备 薄膜 正文

电子束蒸发系统

发布日期：2025-07-01

关键参数：适用于6吋以下晶圆；可搭载多种蒸发源（EB式、电阻式、EB+电阻式）；EB系统配置：10 kV；工艺极限真空：3×10-5 Pa；基片加热温度≤350℃；可实现薄膜厚度6吋片内、片间均匀性≤±3%。

主要功能：蒸发沉积金属及非金属薄膜，可实现小批量制备，支持金属剥离工艺。

  • 联系地址：电子科技大学清水河校区成电国际创新中心A栋1-2层

    官方网址：https://dy.uestc.edu.cn/icse

    联系电话：028-65490892

  • 预约网址：https://dy.uestc.edu.cn/icse/customer/index/index.html

    联系邮箱：icie@uestc.edu.cn

微信公众号