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关键参数：兼容8吋及以下晶圆。微波电源：功率：0~1250 W，频率：2.45 GHz；两路工艺气体：O2、Ar；气体流量范围：0～300 sccm；可通过磁流体控制托盘旋转提高等离子处理均匀性。
主要功能：通过等离子体的活性组分对材料表面进行处理，改变样品表面性质，从而实现清洁、改性、刻蚀等目的。
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